薄層色譜硅膠制備板技術屬于色譜法分析領域，具體涉及一種薄層層析裝置。

薄層(ceng)色譜(pu)法屬于(yu)(yu)制藥或化工合成(cheng)領域(yu)中(zhong)的常見手(shou)段，對于(yu)(yu)實時監測反應(ying)進程、定(ding)性(xing)觀察反應(ying)產(chan)物(wu)等具有(you)十分快速、便(bian)捷(jie)，且(qie)成(cheng)本低等優點，然而，目前常規的層(ceng)析(xi)(xi)缸通常僅(jin)能放置一(yi)塊層(ceng)析(xi)(xi)板，且(qie)層(ceng)析(xi)(xi)過程需要使用有(you)機溶(rong)劑，人(ren)為操(cao)作中(zhong)溶(rong)劑易揮發，既(ji)造成(cheng)損失(shi)，又不利于(yu)(yu)實驗人(ren)員身心健(jian)康，更(geng)是對環境(jing)產(chan)生(sheng)污(wu)染(ran)。另一(yi)方面，層(ceng)析(xi)(xi)過程中(zhong)蒸氣飽和度不可控，容易影響層(ceng)析(xi)(xi)分離效果。因此，目前的薄層(ceng)層(ceng)析(xi)(xi)裝(zhuang)置仍有(you)待進一(yi)步(bu)改進。

一(yi)(yi)(yi)種薄層層析(xi)裝置，其特征在于，包括(kuo)：上(shang)(shang)(shang)(shang)蓋(gai)(gai)(gai)，所(suo)(suo)(suo)(suo)述上(shang)(shang)(shang)(shang)蓋(gai)(gai)(gai)具(ju)有(you)至(zhi)少(shao)一(yi)(yi)(yi)個(ge)第(di)(di)一(yi)(yi)(yi)卡(ka)(ka)位槽；缸(gang)體(ti)，所(suo)(suo)(suo)(suo)述缸(gang)體(ti)上(shang)(shang)(shang)(shang)方為開(kai)口(kou)端，所(suo)(suo)(suo)(suo)述開(kai)口(kou)端與(yu)所(suo)(suo)(suo)(suo)述上(shang)(shang)(shang)(shang)蓋(gai)(gai)(gai)相連(lian)接(jie)，所(suo)(suo)(suo)(suo)述缸(gang)體(ti)包括(kuo)缸(gang)體(ti)底部(bu)(bu)和(he)(he)(he)缸(gang)體(ti)側壁(bi)，所(suo)(suo)(suo)(suo)述缸(gang)體(ti)底部(bu)(bu)具(ju)有(you)至(zhi)少(shao)一(yi)(yi)(yi)個(ge)用于與(yu)所(suo)(suo)(suo)(suo)述第(di)(di)一(yi)(yi)(yi)卡(ka)(ka)位槽配(pei)合固(gu)定薄層層析(xi)板(ban)的(de)第(di)(di)二卡(ka)(ka)位槽，所(suo)(suo)(suo)(suo)述缸(gang)體(ti)側壁(bi)上(shang)(shang)(shang)(shang)部(bu)(bu)設置有(you)第(di)(di)一(yi)(yi)(yi)展(zhan)開(kai)劑槽，所(suo)(suo)(suo)(suo)述第(di)(di)一(yi)(yi)(yi)展(zhan)開(kai)劑槽的(de)壁(bi)上(shang)(shang)(shang)(shang)具(ju)有(you)至(zhi)少(shao)一(yi)(yi)(yi)個(ge)毛(mao)(mao)細孔(kong)，所(suo)(suo)(suo)(suo)述毛(mao)(mao)細孔(kong)連(lian)接(jie)有(you)毛(mao)(mao)細導(dao)流管，所(suo)(suo)(suo)(suo)述毛(mao)(mao)細導(dao)流管延伸至(zhi)所(suo)(suo)(suo)(suo)述缸(gang)體(ti)底部(bu)(bu)，所(suo)(suo)(suo)(suo)述缸(gang)體(ti)底部(bu)(bu)具(ju)有(you)出液口(kou)和(he)(he)(he)與(yu)所(suo)(suo)(suo)(suo)述出液口(kou)相連(lian)的(de)第(di)(di)一(yi)(yi)(yi)控制(zhi)閥；以及(ji)展(zhan)開(kai)劑盛(sheng)放容(rong)器(qi)(qi)，所(suo)(suo)(suo)(suo)述展(zhan)開(kai)劑盛(sheng)放容(rong)器(qi)(qi)具(ju)有(you)第(di)(di)一(yi)(yi)(yi)調節器(qi)(qi)和(he)(he)(he)注(zhu)(zhu)入管，所(suo)(suo)(suo)(suo)述注(zhu)(zhu)入管穿(chuan)過上(shang)(shang)(shang)(shang)蓋(gai)(gai)(gai)與(yu)所(suo)(suo)(suo)(suo)述第(di)(di)一(yi)(yi)(yi)展(zhan)開(kai)劑槽相連(lian)接(jie)，所(suo)(suo)(suo)(suo)述第(di)(di)一(yi)(yi)(yi)調節器(qi)(qi)包括(kuo)蒸氣飽和(he)(he)(he)度顯(xian)示器(qi)(qi)和(he)(he)(he)第(di)(di)二控制(zhi)閥，所(suo)(suo)(suo)(suo)述蒸氣飽和(he)(he)(he)度顯(xian)示器(qi)(qi)具(ju)有(you)感應探頭，所(suo)(suo)(suo)(suo)述感應探頭設置于所(suo)(suo)(suo)(suo)述缸(gang)體(ti)內。

薄層色譜硅膠制備板利用該裝(zhuang)置可(ke)(ke)以實現層(ceng)析(xi)過程(cheng)中的蒸氣飽和度可(ke)(ke)控，且展開劑(ji)為密閉容器中加入，從而保證實驗效(xiao)果和安全。